Перейти до змісту
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Мова
Всі поля
Назва
Автор
Предмет
Шифр
ISBN/ISSN
Тег
Знайти
Розширений
SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING...
Цитувати
Відправити по sms
Відправити е-поштою
Друк
Експортувати запис
Екпортувати в RefWorks
Екпортувати в EndNoteWeb
Екпортувати в EndNote
Постійне посилання
SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING BY HALOGENS - FUNDAMENTAL STEPS
Показати інші версії (1)
Бібліографічні деталі
Автори:
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
Формат:
Journal article
Опубліковано:
1989
Примірники
Опис
Інші версії (1)
Схожі ресурси
Службовий вигляд
Схожі ресурси
Semiconductor surface etching by halogens: Fundamental steps
за авторством: Jackman, R, та інші
Опубліковано: (1989)
REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
за авторством: Jackman, R, та інші
Опубліковано: (1986)
THERMAL AND ION-BEAM-INDUCED ETCHING OF INP WITH CHLORINE
за авторством: Murrell, A, та інші
Опубліковано: (1989)
Thermal and ion-beam-induced etching of InP with chlorine
за авторством: Murrell, A, та інші
Опубліковано: (1989)
HALOGEN ADSORPTION AND HALOGEN-INDUCED SURFACE PHASE-TRANSITIONS ON CR(110)
за авторством: Foord, J, та інші
Опубліковано: (1987)