Nitrogen-doped silicon: Mechanical, transport and electrical properties
A novel dislocation locking technique is used to study the behaviour of nitrogen in float-zone silicon (FZ-Si). Specimens containing well-defined arrays of dislocation half-loops are subjected to isothermal anneals of controlled duration, during which nitrogen diffuses to the dislocations. The stres...
Հիմնական հեղինակներ: | Murphy, J, Alpass, C, Giannattasio, A, Senkader, S, Emiroglu, D, Evans-Freeman, J, Falster, R, Wilshaw, P |
---|---|
Ձևաչափ: | Journal article |
Լեզու: | English |
Հրապարակվել է: |
2006
|
Նմանատիպ նյութեր
-
Nitrogen in silicon: Transport and mechanical properties
: Murphy, J, և այլն
Հրապարակվել է: (2006) -
Nitrogen in silicon: Transport and mechanical properties
: Murphy, J, և այլն
Հրապարակվել է: (2006) -
The influence of nitrogen on dislocation locking in float-zone silicon
: Murphy, J, և այլն
Հրապարակվել է: (2005) -
The influence of nitrogen on dislocation locking in float-zone silicon
: Murphy, J, և այլն
Հրապարակվել է: (2005) -
Out-diffusion of nitrogen from float-zone silicon measured by dislocation locking
: Alpass, C, և այլն
Հրապարակվել է: (2007)