Murphy, J., Bothe, K., Voronkov, V., & Falster, R. (2013). On the mechanism of recombination at oxide precipitates in silicon.
Citação norma ChicagoMurphy, J., K. Bothe, V. Voronkov, and R. Falster. On the Mechanism of Recombination at Oxide Precipitates in Silicon. 2013.
Citação norma MLAMurphy, J., et al. On the Mechanism of Recombination at Oxide Precipitates in Silicon. 2013.
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