Hesjedal, T., & Seidel, W. (2003). Near-field elastomeric mask photolithography fabrication of high-frequency surface acoustic wave transducers.
Trích dẫn kiểu Chicago (xuất bản lần thứ 7)Hesjedal, T., và W. Seidel. Near-field Elastomeric Mask Photolithography Fabrication of High-frequency Surface Acoustic Wave Transducers. 2003.
Trích dẫn kiểu MLA (xuất bản lần thứ 9)Hesjedal, T., và W. Seidel. Near-field Elastomeric Mask Photolithography Fabrication of High-frequency Surface Acoustic Wave Transducers. 2003.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.