Skip to content
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Jezik
Vsa polja
Naslov
Avtor
Tema
Signatura
ISBN/ISSN
Oznaka
Išči
Napredno
Using growth kinetics for nano...
Citiraj
Pošljite SMS
Pošljite email
Natisni
Izvozi zadetek
Izvozi v RefWorks
Izvozi v EndNoteWeb
Izvozi v EndNote
Permanent link
Using growth kinetics for nanoengineering of Si-Ge surfaces
Bibliografske podrobnosti
Main Authors:
Goldfarb, I
,
Briggs, G
Format:
Conference item
Izdano:
1998
Zaloga
Opis
Podobne knjige/članki
Knjižničarski pogled
Podobne knjige/članki
Comparative STM and RHEED studies of Ge/Si(001) and Si/Ge/Si(001) surfaces
od: Goldfarb, I, et al.
Izdano: (1999)
Elevated-temperature STM study of Ge and Si growth on Si(001) from GeH4 and Si2H6
od: Owen, J, et al.
Izdano: (1997)
Competing growth mechanisms of Ge/Si(001) coherent clusters
od: Goldfarb, I, et al.
Izdano: (1997)
Nucleation, growth and size distributions of Ge islands on Si(001): in-situ STM studies
od: Goldfarb, I, et al.
Izdano: (1997)
Gas-source growth of group IV semiconductors: III. Nucleation and growth of Ge/Si(001)
od: Goldfarb, I, et al.
Izdano: (1997)