PRECISE DETERMINATION OF THE PERIODICITY FOR MO/SI AND W/C METALLIC MULTILAYERS BY ELECTRON AND X-RAY-DIFFRACTION
Päätekijät: | Jiang, S, Zou, J, Cockayne, D, Hu, A, Sikorski, A |
---|---|
Aineistotyyppi: | Journal article |
Julkaistu: |
1995
|
Samankaltaisia teoksia
-
Diffraction behaviour of three-component Fibonacci Ta/Al multilayer films
Tekijä: Jiang, S, et al.
Julkaistu: (1997) -
AN ELECTRON-DIFFRACTION AND MICROSCOPY INVESTIGATION OF QUASI-PERIODIC TA-AL SUPERLATTICES
Tekijä: Jiang, S, et al.
Julkaistu: (1992) -
X-Ray Diffraction Technique for Residual Stress Measurement in NiCrMo Alloy Weld Metal
Tekijä: Vladimir Ivanovitch Monine, et al.
Julkaistu: (2018-01-01) -
Wave diffraction by periodic multilayer structures /
Tekijä: Litvinenko, L. N. (Leonid Nikolaevich), et al.
Julkaistu: (c201) -
Investigation of structural and reflective characteristics of short-period Mo/B4C multilayer X-ray mirrors
Tekijä: Roman Shaposhnikov, et al.
Julkaistu: (2024-03-01)