PRECISE DETERMINATION OF THE PERIODICITY FOR MO/SI AND W/C METALLIC MULTILAYERS BY ELECTRON AND X-RAY-DIFFRACTION
Những tác giả chính: | Jiang, S, Zou, J, Cockayne, D, Hu, A, Sikorski, A |
---|---|
Định dạng: | Journal article |
Được phát hành: |
1995
|
Những quyển sách tương tự
-
Diffraction behaviour of three-component Fibonacci Ta/Al multilayer films
Bằng: Jiang, S, et al.
Được phát hành: (1997) -
AN ELECTRON-DIFFRACTION AND MICROSCOPY INVESTIGATION OF QUASI-PERIODIC TA-AL SUPERLATTICES
Bằng: Jiang, S, et al.
Được phát hành: (1992) -
X-Ray Diffraction Technique for Residual Stress Measurement in NiCrMo Alloy Weld Metal
Bằng: Vladimir Ivanovitch Monine, et al.
Được phát hành: (2018-01-01) -
Wave diffraction by periodic multilayer structures /
Bằng: Litvinenko, L. N. (Leonid Nikolaevich), et al.
Được phát hành: (c201) -
Investigation of structural and reflective characteristics of short-period Mo/B4C multilayer X-ray mirrors
Bằng: Roman Shaposhnikov, et al.
Được phát hành: (2024-03-01)