IN-SITU DEPOSITION OF HIGH-TC MATERIALS USING VACUUM-ARC ABLATION WITH MACROPARTICLE FILTER
Những tác giả chính: | Sloggett, G, Mckenzie, D, Cockayne, D, Smith, G, Jenkins, B, Foley, C, Takano, Y, Studer, A, Haub, J, Orr, B |
---|---|
Định dạng: | Conference item |
Được phát hành: |
1994
|
Những quyển sách tương tự
-
CATHODIC ARC ABLATION AS A NEW METHOD OF HIGH-TC SUPERCONDUCTOR DEPOSITION
Bằng: Studer, A, et al.
Được phát hành: (1992) -
The source of macroparticle-free plasma flows for nanoelectronics
Bằng: Borisenko A. G.
Được phát hành: (2013-06-01) -
MICROSCOPICALLY PROPERTIES OF PLASMA WITH CONDUCTIVE MACROPARTICLES
Bằng: F. Baimbetov, et al.
Được phát hành: (2010-12-01) -
Life of the dust macroparticles in storage rings
Bằng: S. Heifets, et al.
Được phát hành: (2005-06-01) -
Positively Charged Macroparticles in Low-Temperature Plasma
Bằng: Aleksander A. Bizyukov, et al.
Được phát hành: (2022-03-01)