Skip to content
VuFind
    • English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
    • Հայերէն
    • Українська
    • Sámegiella
    • Монгол
מתקדם
  • SURFACE-REACTION MECHANISMS IN...
  • יצירת מראה מקום
  • שליחה במסרון
  • שלח את זה
  • הדפסה
  • יצוא רשומה
    • יצוא אל RefWorks
    • יצוא אל EndNoteWeb
    • יצוא אל EndNote
  • Permanent link
SURFACE-REACTION MECHANISMS IN CHEMICAL BEAM EPITAXY

SURFACE-REACTION MECHANISMS IN CHEMICAL BEAM EPITAXY

מידע ביבליוגרפי
Main Authors: Foord, J, Singh, N, Wee, A, French, C, Fitzgerald, E
פורמט: Conference item
יצא לאור: 1991
  • מלאי ספרים
  • תיאור
  • פריטים דומים
  • תצוגת צוות

פריטים דומים

  • REACTION MODELS FOR THE EPITAXIAL-GROWTH OF III-V SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
    מאת: Foord, J, et al.
    יצא לאור: (1993)
  • SURFACE-REACTION MECHANISMS GOVERNING THE SELECTIVE AREA GROWTH OF III-V COMPOUND SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
    מאת: Davies, G, et al.
    יצא לאור: (1993)
  • SOME COMPARISONS OF CHEMICAL BEAM EPITAXY WITH GAS SOURCE MOLECULAR-BEAM EPITAXY
    מאת: Davies, G, et al.
    יצא לאור: (1991)
  • REACTION-MECHANISMS GOVERNING THE SELECTED-AREA GROWTH OF III-V SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
    מאת: Foord, J, et al.
    יצא לאור: (1993)
  • SELECTIVE-AREA GROWTH OF III-V SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY - STUDY OF REACTION-MECHANISMS
    מאת: Davies, G, et al.
    יצא לאור: (1994)

אפשרויות חיפוש

  • חיפושים קודמים
  • חיפוש מתקדם

מצא עוד

  • דפדוף בקטלוג
  • דפדוף בסדר אלפבתי
  • Explore Channels
  • שמורות לקורס
  • פריטים חדשים

צריכים עזרה?

  • טיפים לחיפוש
  • לשאול ספרן/ית
  • שאלות נפוצות