SURFACE-REACTION MECHANISMS IN CHEMICAL BEAM EPITAXY
Հիմնական հեղինակներ: | Foord, J, Singh, N, Wee, A, French, C, Fitzgerald, E |
---|---|
Ձևաչափ: | Conference item |
Հրապարակվել է: |
1991
|
Նմանատիպ նյութեր
-
REACTION MODELS FOR THE EPITAXIAL-GROWTH OF III-V SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
: Foord, J, և այլն
Հրապարակվել է: (1993) -
SURFACE-REACTION MECHANISMS GOVERNING THE SELECTIVE AREA GROWTH OF III-V COMPOUND SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
: Davies, G, և այլն
Հրապարակվել է: (1993) -
SOME COMPARISONS OF CHEMICAL BEAM EPITAXY WITH GAS SOURCE MOLECULAR-BEAM EPITAXY
: Davies, G, և այլն
Հրապարակվել է: (1991) -
REACTION-MECHANISMS GOVERNING THE SELECTED-AREA GROWTH OF III-V SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY
: Foord, J, և այլն
Հրապարակվել է: (1993) -
SELECTIVE-AREA GROWTH OF III-V SEMICONDUCTORS BY CHEMICAL BEAM EPITAXY - STUDY OF REACTION-MECHANISMS
: Davies, G, և այլն
Հրապարակվել է: (1994)