Graphene oxide films for field effect surface passivation of silicon for solar cells
In recent years it has been shown that graphene oxide (GO) can be used to passivate silicon surfaces resulting in increased photocurrents in metal-insulator-semiconductor (MIS) tunneling diodes, and in improved efficiencies in Schottky-barrier solar cells with either metal or graphene barriers, howe...
Автори: | Vaqueiro-Contreras, M, Bartlam, C, Bonilla, R, Markevich, V, Halsall, M, Vijayaraghavan, A, Peaker, A |
---|---|
Формат: | Journal article |
Опубліковано: |
Elsevier
2018
|
Схожі ресурси
Схожі ресурси
-
The surface passivation mechanism of graphene oxide for crystalline silicon
за авторством: Vaqueiro-Contreras, M, та інші
Опубліковано: (2020) -
Electric field effect surface passivation for silicon solar cells
за авторством: Bonilla, R, та інші
Опубліковано: (2014) -
A technique for field effect surface passivation for silicon solar cells
за авторством: Bonilla, R, та інші
Опубліковано: (2014) -
A technique for field effect surface passivation for silicon solar cells
за авторством: Bonilla Osorio, RS, та інші
Опубліковано: (2014) -
Controlled field effect surface passivation of crystalline n-type silicon and its application to back-contact silicon solar cells
за авторством: Bonilla, R, та інші
Опубліковано: (2014)