Siirry sisältöön
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Kieli
Kaikki kentät
Nimeke
Tekijä
Aihe
Hyllypaikka
ISBN/ISSN
Tagi
Hae
Tarkennettu
WORK FUNCTION AT A SILICON SUR...
Sitaatti
Tekstiviesti
Lähetä sähköpostilla
Tulosta
Vie tietue
Vienti: RefWorks
Vienti: EndNoteWeb
Vienti: EndNote
Pysyvä linkki
WORK FUNCTION AT A SILICON SURFACE ATOMICALLY RESOLVED BY STM
Bibliografiset tiedot
Päätekijät:
Pethica, J
,
Knall, J
,
Wilson, J
Aineistotyyppi:
Conference item
Julkaistu:
1993
Saatavuustiedot
Kuvaus
Samankaltaisia teoksia
Henkilökuntanäyttö
Kuvaus
Yhteenveto:
Samankaltaisia teoksia
Quantitative STM imaging of metal surfaces
Tekijä: Clarke, A, et al.
Julkaistu: (1996)
ADSORPTION OF TRIMETHYLGALLIUM ON SEMICONDUCTOR SURFACES - STM OBSERVATIONS
Tekijä: Mayne, A, et al.
Julkaistu: (1993)
Superstructures and defect structures revealed by atomic-scale STM imaging of WO3(001).
Tekijä: Jones, F, et al.
Julkaistu: (1995)
An STM study of surface structures on WO3(001)
Tekijä: Jones, F, et al.
Julkaistu: (1996)
The surface structure of TiO2(210) studied by atomically resolved STM and atomistic simulation
Tekijä: Howard, A, et al.
Julkaistu: (2000)