Przejdź do treści
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Język
Wszystkie pola
Tytuł
Autor
Hasło przedmiotowe
Sygnatura
ISBN / ISSN
Etykieta
Szukaj
Wyszukiwanie zaawansowane
WORK FUNCTION AT A SILICON SUR...
Cytować
Wyślij wiadomość
Wyślij emailem
Drukuj
Eksportuj rekord
Eksportuj do RefWorks
Eksportuj do EndNoteWeb
Eksportuj do EndNote
Odnośnik bezpośredni
WORK FUNCTION AT A SILICON SURFACE ATOMICALLY RESOLVED BY STM
Opis bibliograficzny
Główni autorzy:
Pethica, J
,
Knall, J
,
Wilson, J
Format:
Conference item
Wydane:
1993
Egzemplarz
Opis
Podobne zapisy
Wersja MARC
Opis
Streszczenie:
Podobne zapisy
Quantitative STM imaging of metal surfaces
od: Clarke, A, i wsp.
Wydane: (1996)
ADSORPTION OF TRIMETHYLGALLIUM ON SEMICONDUCTOR SURFACES - STM OBSERVATIONS
od: Mayne, A, i wsp.
Wydane: (1993)
Superstructures and defect structures revealed by atomic-scale STM imaging of WO3(001).
od: Jones, F, i wsp.
Wydane: (1995)
An STM study of surface structures on WO3(001)
od: Jones, F, i wsp.
Wydane: (1996)
The surface structure of TiO2(210) studied by atomically resolved STM and atomistic simulation
od: Howard, A, i wsp.
Wydane: (2000)