Pular para o conteúdo
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Idioma
Todos os campos
Título
Autor
Assunto
Número de Chamada
ISBN/ISSN
Tag
Buscar
Avançada
WORK FUNCTION AT A SILICON SUR...
Citar
Enviar por SMS
Enviar por e-mail
Imprimir
Exportar registro
Exportar para RefWorks
Exportar para EndNoteWeb
Exportar para EndNote
Link permanente
WORK FUNCTION AT A SILICON SURFACE ATOMICALLY RESOLVED BY STM
Detalhes bibliográficos
Principais autores:
Pethica, J
,
Knall, J
,
Wilson, J
Formato:
Conference item
Publicado em:
1993
Itens
Descrição
Registros relacionados
Registro fonte
Descrição
Resumo:
Registros relacionados
Quantitative STM imaging of metal surfaces
por: Clarke, A, et al.
Publicado em: (1996)
ADSORPTION OF TRIMETHYLGALLIUM ON SEMICONDUCTOR SURFACES - STM OBSERVATIONS
por: Mayne, A, et al.
Publicado em: (1993)
Superstructures and defect structures revealed by atomic-scale STM imaging of WO3(001).
por: Jones, F, et al.
Publicado em: (1995)
An STM study of surface structures on WO3(001)
por: Jones, F, et al.
Publicado em: (1996)
The surface structure of TiO2(210) studied by atomically resolved STM and atomistic simulation
por: Howard, A, et al.
Publicado em: (2000)