Anar al contingut
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Idioma
Tots els camps
Títol
Autor
Matèria
Signatura
ISBN/ISSN
Etiqueta
Trobar
Avançada
WORK FUNCTION AT A SILICON SUR...
Citar
Enviar aquest missatge de text
Enviar per correu electrònic aquest
Imprimir
Exportar registre
Exportar a RefWorks
Exportar a EndNoteWeb
Exportar a EndNote
Enllaç permanent
WORK FUNCTION AT A SILICON SURFACE ATOMICALLY RESOLVED BY STM
Dades bibliogràfiques
Autors principals:
Pethica, J
,
Knall, J
,
Wilson, J
Format:
Conference item
Publicat:
1993
Fons
Descripció
Ítems similars
Visualització del personal
Ítems similars
Quantitative STM imaging of metal surfaces
per: Clarke, A, et al.
Publicat: (1996)
ADSORPTION OF TRIMETHYLGALLIUM ON SEMICONDUCTOR SURFACES - STM OBSERVATIONS
per: Mayne, A, et al.
Publicat: (1993)
Superstructures and defect structures revealed by atomic-scale STM imaging of WO3(001).
per: Jones, F, et al.
Publicat: (1995)
An STM study of surface structures on WO3(001)
per: Jones, F, et al.
Publicat: (1996)
The surface structure of TiO2(210) studied by atomically resolved STM and atomistic simulation
per: Howard, A, et al.
Publicat: (2000)