Skip to content
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
שפה
כל השדות
כותר
מחבר
נושא
סימן המיקום
ISBN/ISSN
תג
מצא
מתקדם
WORK FUNCTION AT A SILICON SUR...
יצירת מראה מקום
שליחה במסרון
שלח את זה
הדפסה
יצוא רשומה
יצוא אל RefWorks
יצוא אל EndNoteWeb
יצוא אל EndNote
Permanent link
WORK FUNCTION AT A SILICON SURFACE ATOMICALLY RESOLVED BY STM
מידע ביבליוגרפי
Main Authors:
Pethica, J
,
Knall, J
,
Wilson, J
פורמט:
Conference item
יצא לאור:
1993
מלאי ספרים
תיאור
פריטים דומים
תצוגת צוות
פריטים דומים
Quantitative STM imaging of metal surfaces
מאת: Clarke, A, et al.
יצא לאור: (1996)
ADSORPTION OF TRIMETHYLGALLIUM ON SEMICONDUCTOR SURFACES - STM OBSERVATIONS
מאת: Mayne, A, et al.
יצא לאור: (1993)
Superstructures and defect structures revealed by atomic-scale STM imaging of WO3(001).
מאת: Jones, F, et al.
יצא לאור: (1995)
An STM study of surface structures on WO3(001)
מאת: Jones, F, et al.
יצא לאור: (1996)
The surface structure of TiO2(210) studied by atomically resolved STM and atomistic simulation
מאת: Howard, A, et al.
יצא לאור: (2000)