Chuyển đến nội dung
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Ngôn ngữ
Tất cả các trường
Tiêu đề
Tác giả
Chủ đề
Số hiệu
số ISBN/ISSN
Nhãn
Tìm kiếm
Nâng cao
WORK FUNCTION AT A SILICON SUR...
Trích dẫn điều này
Văn bản này
Email này
In
Xuất bản ghi
Xuất tới RefWorks
Xuất tới EndNoteWeb
Xuất tới EndNote
Liên kết dài hạn
WORK FUNCTION AT A SILICON SURFACE ATOMICALLY RESOLVED BY STM
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính:
Pethica, J
,
Knall, J
,
Wilson, J
Định dạng:
Conference item
Được phát hành:
1993
Đang giữ
Miêu tả
Những quyển sách tương tự
Chế độ xem nhân viên
Những quyển sách tương tự
Quantitative STM imaging of metal surfaces
Bằng: Clarke, A, et al.
Được phát hành: (1996)
ADSORPTION OF TRIMETHYLGALLIUM ON SEMICONDUCTOR SURFACES - STM OBSERVATIONS
Bằng: Mayne, A, et al.
Được phát hành: (1993)
Superstructures and defect structures revealed by atomic-scale STM imaging of WO3(001).
Bằng: Jones, F, et al.
Được phát hành: (1995)
An STM study of surface structures on WO3(001)
Bằng: Jones, F, et al.
Được phát hành: (1996)
The surface structure of TiO2(210) studied by atomically resolved STM and atomistic simulation
Bằng: Howard, A, et al.
Được phát hành: (2000)