Glasko, J., Elliman, R., Zou, J., Cockayne, D., & Gerald, F. (1998). Strain and defect microstructure in ion-irradiated GeSi/Si strained layers as a function of annealing temperature.
Չիկագոյի ոճի (17րդ խմբ.) մեջբերումGlasko, J., R. Elliman, J. Zou, D. Cockayne, and F. Gerald. Strain and Defect Microstructure in Ion-irradiated GeSi/Si Strained Layers as a Function of Annealing Temperature. 1998.
MLA (9րդ խմբ.) ՄեջբերումGlasko, J., et al. Strain and Defect Microstructure in Ion-irradiated GeSi/Si Strained Layers as a Function of Annealing Temperature. 1998.
Զգուշացում. այս մեջբերումները միշտ չէ, որ կարող են 100% ճշգրիտ լինել.