Glasko, J., Elliman, R., Zou, J., Cockayne, D., & Gerald, F. (1998). Strain and defect microstructure in ion-irradiated GeSi/Si strained layers as a function of annealing temperature.
Чикаго-гийн эшлэл (17 дахь хэвлэлт)Glasko, J., R. Elliman, J. Zou, D. Cockayne, ба F. Gerald. Strain and Defect Microstructure in Ion-irradiated GeSi/Si Strained Layers as a Function of Annealing Temperature. 1998.
MLA -ийн эшлэл (9 дэх хэвлэлт)Glasko, J., et al. Strain and Defect Microstructure in Ion-irradiated GeSi/Si Strained Layers as a Function of Annealing Temperature. 1998.
Анхааруулга: Эдгээр ишлэлүүд үргэлж 100% үнэн зөв биш байж магадгүй.