Neidio i'r cynnwys
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Iaith
Pob Maes
Teitl
Awdur
Pwnc
Rhif Galw
ISBN/ISSN
Tag
Canfod
Uwch
Strain and defect microstructu...
Dyfynnu hwn
Anfonwch hwn fel neges destun
E-bostio hwn
Argraffu
Allforio Cofnod
Allforio i RefWorks
Allforio i EndNoteWeb
Allforio i EndNote
Permanent link
Strain and defect microstructure in ion-irradiated GeSi/Si strained layers as a function of annealing temperature
Manylion Llyfryddiaeth
Prif Awduron:
Glasko, J
,
Elliman, R
,
Zou, J
,
Cockayne, D
,
Gerald, F
Fformat:
Journal article
Cyhoeddwyd:
1998
Daliadau
Disgrifiad
Eitemau Tebyg
Dangos Staff
Eitemau Tebyg
Ion irradiation of GeSi Si strained-layer heterostructures
gan: Glasko, J, et al.
Cyhoeddwyd: (1999)
The effect of irradiation temperature on post-irradiation strain levels in GexSi1-x/Si strained layer heterostructures
gan: Glasko, J, et al.
Cyhoeddwyd: (1996)
The effect of ion-implantation induced defects on strain relaxation in GexSi1-x/Si heterostructures
gan: Glasko, J, et al.
Cyhoeddwyd: (1997)
GeSi strained layers and their applications /
gan: Stoneham, A. M., et al.
Cyhoeddwyd: (1995)
Ge and GeSi electroabsorption modulator arrays via strain and composition engineering
gan: Ma, Danhao.
Cyhoeddwyd: (2021)