Skip to content
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
שפה
כל השדות
כותר
מחבר
נושא
סימן המיקום
ISBN/ISSN
תג
מצא
מתקדם
Strain and defect microstructu...
יצירת מראה מקום
שליחה במסרון
שלח את זה
הדפסה
יצוא רשומה
יצוא אל RefWorks
יצוא אל EndNoteWeb
יצוא אל EndNote
Permanent link
Strain and defect microstructure in ion-irradiated GeSi/Si strained layers as a function of annealing temperature
מידע ביבליוגרפי
Main Authors:
Glasko, J
,
Elliman, R
,
Zou, J
,
Cockayne, D
,
Gerald, F
פורמט:
Journal article
יצא לאור:
1998
מלאי ספרים
תיאור
פריטים דומים
תצוגת צוות
פריטים דומים
Ion irradiation of GeSi Si strained-layer heterostructures
מאת: Glasko, J, et al.
יצא לאור: (1999)
The effect of irradiation temperature on post-irradiation strain levels in GexSi1-x/Si strained layer heterostructures
מאת: Glasko, J, et al.
יצא לאור: (1996)
The effect of ion-implantation induced defects on strain relaxation in GexSi1-x/Si heterostructures
מאת: Glasko, J, et al.
יצא לאור: (1997)
GeSi strained layers and their applications /
מאת: Stoneham, A. M., et al.
יצא לאור: (1995)
Ge and GeSi electroabsorption modulator arrays via strain and composition engineering
מאת: Ma, Danhao.
יצא לאור: (2021)