Ga door naar de inhoud
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Taal
Alle velden
Titel
Auteur
Onderwerp
Plaatsingsnummer
ISBN/ISSN
Tag
Zoek
Geavanceerd
Strain and defect microstructu...
Citeren
SMS dit
Versturen
Afdrukken
Exporteer Record
Exporteer naar RefWorks
Exporteer naar EndNoteWeb
Exporteer naar EndNote
Permalink
Strain and defect microstructure in ion-irradiated GeSi/Si strained layers as a function of annealing temperature
Bibliografische gegevens
Hoofdauteurs:
Glasko, J
,
Elliman, R
,
Zou, J
,
Cockayne, D
,
Gerald, F
Formaat:
Journal article
Gepubliceerd in:
1998
Exemplaren
Omschrijving
Gelijkaardige items
Personeel
Gelijkaardige items
Ion irradiation of GeSi Si strained-layer heterostructures
door: Glasko, J, et al.
Gepubliceerd in: (1999)
The effect of irradiation temperature on post-irradiation strain levels in GexSi1-x/Si strained layer heterostructures
door: Glasko, J, et al.
Gepubliceerd in: (1996)
The effect of ion-implantation induced defects on strain relaxation in GexSi1-x/Si heterostructures
door: Glasko, J, et al.
Gepubliceerd in: (1997)
GeSi strained layers and their applications /
door: Stoneham, A. M., et al.
Gepubliceerd in: (1995)
Ge and GeSi electroabsorption modulator arrays via strain and composition engineering
door: Ma, Danhao.
Gepubliceerd in: (2021)