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Strain relaxation by alloying effects in Ge islands grown on Si(001)

Strain relaxation by alloying effects in Ge islands grown on Si(001)

Detalles Bibliográficos
Main Authors: Liao, X, Zou, J, Cockayne, D, Qin, J, Jiang, Z, Wang, X, Leon, R
Formato: Journal article
Publicado: 1999
  • Existencias
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Descripción
Summary:

Títulos similares

  • Extracting composition and alloying information of coherent Ge(Si)/Si(001) islands from [001] on-zone bright-field diffraction contrast images
    por: Liao, X, et al.
    Publicado: (2001)
  • Alloying and Strain Relaxation in SiGe Islands Grown on Pit-Patterned Si(001) Substrates Probed by Nanotomography
    por: Merdzhanova T, et al.
    Publicado: (2009-01-01)
  • [001] zone-axis bright-field diffraction contrast from coherent Ge(Si) islands on Si(001).
    por: Liao, X, et al.
    Publicado: (2004)
  • Alternative mechanism for misfit dislocation generation during high-temperature Ge(Si)/Si(001) island growth
    por: Zou, J, et al.
    Publicado: (2002)
  • Alloying, elemental enrichment, and interdiffusion during the growth of Ge(Si)/Si(001) quantum dots
    por: Liao, X, et al.
    Publicado: (2002)

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