Boron diffusion in nanocrystalline 3C-SiC (vol 104, 213108, 2014)
Autori principali: | Schnabel, M, Weiss, C, Canino, M, Rachow, T, Loeper, P, Summonte, C, Mirabella, S, Janz, S, Wilshaw, P |
---|---|
Natura: | Journal article |
Lingua: | English |
Pubblicazione: |
American Institute of Physics Inc.
2014
|
Documenti analoghi
Documenti analoghi
-
Boron diffusion in nanocrystalline 3C-SiC
di: Schnabel, M, et al.
Pubblicazione: (2014) -
Nanocrystalline SiC formed by annealing of a-SiC:H on Si substrates: A study of dopant interdiffusion
di: Schnabel, M, et al.
Pubblicazione: (2014) -
Electrical and optical characterisation of silicon nanocrystals embedded in SiC
di: Schnabel, M, et al.
Pubblicazione: (2014) -
Thermal oxidation and encapsulation of silicon-carbon nanolayers
di: Schnabel, M, et al.
Pubblicazione: (2013) -
Chemically active plasmas for deterministic assembly of nanocrystalline SiC film
di: Cheng, Q. J., et al.
Pubblicazione: (2013)