Studies on etching and polymer deposition in halocarbon plasmas
<p>Plasma etching, the selective removal of materials by reaction with chemically active species formed in a glow-discharge, is widely used by the electronics industry because of the advantages over 'wet' processes. The full potential has yet to be realised because chemical processe...
| Հիմնական հեղինակներ: | , |
|---|---|
| Այլ հեղինակներ: | |
| Ձևաչափ: | Թեզիս |
| Լեզու: | English |
| Հրապարակվել է: |
1987
|
| Խորագրեր: |