The properties of nitrogen in silicon
The behaviour of nitrogen in silicon is investigated using the dislocation unlocking technique. Specimens containing well-ordered arrays of dislocations are isothermally annealed for a controlled duration, during which nitrogen segregates to and pins the dislocations. The stress required to unlock t...
Những tác giả chính: | Alpass, C, Charles Alpass |
---|---|
Tác giả khác: | Wilshaw, P |
Định dạng: | Luận văn |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
2008
|
Những chủ đề: |
Những quyển sách tương tự
-
Interaction of oxygen and nitrogen impurities with dislocations in silicon single-crystals
Bằng: Giannattasio, A
Được phát hành: (2004) -
Epitaxial silicon technology/
Bằng: Baliga, B. Jayant
Được phát hành: (1986) -
Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2012 : symposium held April 9-13, 2012, San Francisco, California, U.S.A. /
Bằng: Symposium A, "Amorphous and Polycrystalline Thin Film Silicon Science and Technology" (2012 : San Francisco, Calif.), et al.
Được phát hành: ( c20) -
Film silicon science and technology : symposium held April 1-5, 2013, San Francisco, California, U.S.A. /
Bằng: Film Silicon Science and Technology (Symposium) (2013 : San Francisco, Calif.), et al.
Được phát hành: (2013) -
Silicon semiconductor technology /
Bằng: 414968 Runyan, Walter R.
Được phát hành: (1965)