CHEMICAL MICROANALYSIS OF SEMICONDUCTOR HETEROSTRUCTURES BY THICKNESS FRINGE IMAGING
প্রধান লেখক: | Glaisher, R, Cockayne, D |
---|---|
বিন্যাস: | Journal article |
প্রকাশিত: |
1993
|
অনুরূপ উপাদানগুলি
অনুরূপ উপাদানগুলি
-
DISLOCATION GEOMETRIES IN SEMICONDUCTORS AND IN SEMICONDUCTOR HETEROSTRUCTURES
অনুযায়ী: Cockayne, D, অন্যান্য
প্রকাশিত: (1991) -
LATTICE FRINGE IMAGING OF MODULATED STRUCTURES
অনুযায়ী: Cockayne, D, অন্যান্য
প্রকাশিত: (1981) -
RECENT DEVELOPMENTS IN THE STUDY OF SEMICONDUCTORS BY ATOM PROBE MICROANALYSIS.
অনুযায়ী: Grovenor, C, অন্যান্য
প্রকাশিত: (1985) -
Limitations on the s-state approach to the interpretation of sub-angstrom resolution electron microscope images and microanalysis.
অনুযায়ী: Anstis, G, অন্যান্য
প্রকাশিত: (2003) -
CRITICAL THICKNESS DETERMINATION OF INXGA1-XAS/GAAS STRAINED-LAYER SYSTEM BY TRANSMISSION ELECTRON-MICROSCOPY
অনুযায়ী: Zou, J, অন্যান্য
প্রকাশিত: (1991)