Aller au contenu
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Langue
Tous les champs
Titre
Auteur
Sujet
Cote
ISBN/ISSN
Tag
Rechercher
Recherche avancée
CHEMICAL MICROANALYSIS OF SEMI...
Citer
Envoyer par SMS
Envoyer par courriel
Imprimer
Exporter les notices
Exporter vers RefWorks
Exporter vers EndNoteWeb
Exporter vers EndNote
Permalien
CHEMICAL MICROANALYSIS OF SEMICONDUCTOR HETEROSTRUCTURES BY THICKNESS FRINGE IMAGING
Détails bibliographiques
Auteurs principaux:
Glaisher, R
,
Cockayne, D
Format:
Journal article
Publié:
1993
Exemplaires
Description
Documents similaires
Affichage MARC
Documents similaires
DISLOCATION GEOMETRIES IN SEMICONDUCTORS AND IN SEMICONDUCTOR HETEROSTRUCTURES
par: Cockayne, D, et autres
Publié: (1991)
LATTICE FRINGE IMAGING OF MODULATED STRUCTURES
par: Cockayne, D, et autres
Publié: (1981)
RECENT DEVELOPMENTS IN THE STUDY OF SEMICONDUCTORS BY ATOM PROBE MICROANALYSIS.
par: Grovenor, C, et autres
Publié: (1985)
Limitations on the s-state approach to the interpretation of sub-angstrom resolution electron microscope images and microanalysis.
par: Anstis, G, et autres
Publié: (2003)
CRITICAL THICKNESS DETERMINATION OF INXGA1-XAS/GAAS STRAINED-LAYER SYSTEM BY TRANSMISSION ELECTRON-MICROSCOPY
par: Zou, J, et autres
Publié: (1991)