Saltar ao contenido
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Idioma
Todos os campos
Title
Autor
Subject
Número de Clasificación
ISBN/ISSN
Tag
Buscar
Avanzado
CHEMICAL MICROANALYSIS OF SEMI...
Citar
Text this
Enviar este rexistro por email
Imprimir
Exportar rexistro
Exportar a RefWorks
Exportar a EndNoteWeb
Exportar a EndNote
Permanent link
CHEMICAL MICROANALYSIS OF SEMICONDUCTOR HETEROSTRUCTURES BY THICKNESS FRINGE IMAGING
Detalles Bibliográficos
Main Authors:
Glaisher, R
,
Cockayne, D
Formato:
Journal article
Publicado:
1993
Existencias
Descripción
Títulos similares
Staff View
Títulos similares
DISLOCATION GEOMETRIES IN SEMICONDUCTORS AND IN SEMICONDUCTOR HETEROSTRUCTURES
por: Cockayne, D, et al.
Publicado: (1991)
LATTICE FRINGE IMAGING OF MODULATED STRUCTURES
por: Cockayne, D, et al.
Publicado: (1981)
RECENT DEVELOPMENTS IN THE STUDY OF SEMICONDUCTORS BY ATOM PROBE MICROANALYSIS.
por: Grovenor, C, et al.
Publicado: (1985)
Limitations on the s-state approach to the interpretation of sub-angstrom resolution electron microscope images and microanalysis.
por: Anstis, G, et al.
Publicado: (2003)
CRITICAL THICKNESS DETERMINATION OF INXGA1-XAS/GAAS STRAINED-LAYER SYSTEM BY TRANSMISSION ELECTRON-MICROSCOPY
por: Zou, J, et al.
Publicado: (1991)