ATOM PROBE STUDIES OF THE COMPOSITION OF LOW-TEMPERATURE OXIDES ON (100) SILICON AND GALLIUM-ARSENIDE SURFACES
Pulsed laser atom probe microanalysis has been used to investigate the stoichiometry of low-temperature oxides on silicon and gallium arsenide. The composition of hydrophobic oxides grown on silicon after cleaning in hydrofluoric acid solutions is shown to tend to SiO as the oxide layer thickens. By...
Հիմնական հեղինակներ: | Grovenor, C, Cerezo, A |
---|---|
Ձևաչափ: | Journal article |
Լեզու: | English |
Հրապարակվել է: |
1989
|
Նմանատիպ նյութեր
-
PLASTICITY AND DISLOCATION MOBILITIES AT LOW-TEMPERATURE IN SILICON AND GALLIUM-ARSENIDE
: Demenet, J, և այլն
Հրապարակվել է: (1989) -
RECOMBINATION AT DISLOCATIONS IN SILICON AND GALLIUM-ARSENIDE
: Wilshaw, P, և այլն
Հրապարակվել է: (1989) -
VLSI fabrication principles : silicon and gallium arsenide /
: 359597 Ghandi, Sorab K.
Հրապարակվել է: (1994) -
VLSI fabrication principles: silicon and gallium arsenide/
: 359597 Ghandi, Sorab K.
Հրապարակվել է: (1983) -
Gallium arsenide /
: Blakemore, John Sydney
Հրապարակվել է: (1987)