ATOM PROBE STUDIES OF THE COMPOSITION OF LOW-TEMPERATURE OXIDES ON (100) SILICON AND GALLIUM-ARSENIDE SURFACES
Pulsed laser atom probe microanalysis has been used to investigate the stoichiometry of low-temperature oxides on silicon and gallium arsenide. The composition of hydrophobic oxides grown on silicon after cleaning in hydrofluoric acid solutions is shown to tend to SiO as the oxide layer thickens. By...
Những tác giả chính: | Grovenor, C, Cerezo, A |
---|---|
Định dạng: | Journal article |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
1989
|
Những quyển sách tương tự
-
PLASTICITY AND DISLOCATION MOBILITIES AT LOW-TEMPERATURE IN SILICON AND GALLIUM-ARSENIDE
Bằng: Demenet, J, et al.
Được phát hành: (1989) -
RECOMBINATION AT DISLOCATIONS IN SILICON AND GALLIUM-ARSENIDE
Bằng: Wilshaw, P, et al.
Được phát hành: (1989) -
VLSI fabrication principles : silicon and gallium arsenide /
Bằng: 359597 Ghandi, Sorab K.
Được phát hành: (1994) -
VLSI fabrication principles: silicon and gallium arsenide/
Bằng: 359597 Ghandi, Sorab K.
Được phát hành: (1983) -
Gallium arsenide /
Bằng: Blakemore, John Sydney
Được phát hành: (1987)