Стиль цитування APA (7-ме видання)

Burn, D., Duffy, L., Fujita, R., Zhang, S., Figueroa, A., Herrero-Martin, J., . . . Hesjedal, T. (2019). Cr2Te3 thin films for integration in magnetic topological insulator heterostructures. Nature.

Чикаго стиль цитування (17-те видання)

Burn, DM, L. Duffy, R. Fujita, S. Zhang, AI Figueroa, J. Herrero-Martin, G. Van Der Laan, та T. Hesjedal. Cr2Te3 Thin Films for Integration in Magnetic Topological Insulator Heterostructures. Nature, 2019.

Стиль цитування MLA (9-ме видання)

Burn, DM, et al. Cr2Te3 Thin Films for Integration in Magnetic Topological Insulator Heterostructures. Nature, 2019.