Inductively Coupled Plasma Etching On Gan
Dalam projek ini, penyelidikan difokuskan kepada kajian tentang pengaruh pelbagai campuran plasma (H2 dan Ar) kepada Ch sebagai gas asas pada GaN menggunakan punaran kering khususnya punaran plasma yang digandingkan secara teraruh (ICP) untuk mendapatkan anisotropik yang tinggi In this project...
| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Tesis |
| Lenguaje: | English |
| Publicado: |
2010
|
| Materias: | |
| Acceso en línea: | http://eprints.usm.my/29516/1/Inductively_coupled_plasma_etching_on_GaN.pdf |