Device design consideration for nanoscale MOSFET using semiconductor TCAD tools
The evolution of metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET) technology has been governed mainly by device scaling over the past twenty years. One of the key questions concerning future ULSI technology is whether MOSFET devices can be scaled to 100 nmchannel length and beyond for cont...
Những tác giả chính: | Teoh, Chin Hong, Ismail, Razali |
---|---|
Định dạng: | Conference or Workshop Item |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
2006
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | http://eprints.utm.my/7496/1/Razali_Ismail_2006_Device_Design_Consideration_for_Nanoscale.pdf |
Những quyển sách tương tự
-
Characterization of strained silicon MOSFET using semiconductor TCAD tools
Bằng: Wong, Yah Jin, et al.
Được phát hành: (2006) -
Optimization of nanoscale complementary metal oxide semiconductor performance
Bằng: Teoh, Chin Hong
Được phát hành: (2007) -
Modelling of nanoscale MOSFET performance in the velocity saturation region
Bằng: Tan, Micheal Loong Peng, et al.
Được phát hành: (2007) -
Optimization of device performance using semiconductor TCAD tools /
Bằng: 244399 Yew, Kwang Sing, et al.
Được phát hành: (2007) -
Modeling the effect of velocity saturation in nanoscale MOSFET
Bằng: Tan, Michael Loong Peng
Được phát hành: (2006)