Hoppa till innehåll
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Språk
Alla fält
Titel
Upphovsman
Ämne
Signum
ISBN/ISSN
Tagg
Sök
Avancerad
Modelling of dopant diffusion...
Hänvisa
Textmeddelande
Skicka per e-post
Skriv ut
Exportera posten
Exportera till: RefWorks
Exportera till: EndNoteWeb
Exportera till: EndNote
Permanent länk
Modelling of dopant diffusion in MOS fabrication process [mikrofilem]/
Project paper (Bachelor of Electrical Engineering) -- Universiti Teknologi Malaysia, 1990
Bibliografiska uppgifter
Huvudupphovsman:
225173 Oommen P. A. Kunjappy
Materialtyp:
Publicerad:
1990
Ämnen:
Metal oxide semiconductors
Silicon
Microelectronics
Beståndsuppgifter
Beskrivning
Liknande verk
Katalogiseringsuppgifter
Liknande verk
Modelling of dopant diffusion in MOS fabrication process /
av: 225173 Oommen P. A. Kunjappy
The MOS system /
av: Engstrm̲, Olof, author
Publicerad: (2014)
Operation and modeling of the MOS transistor/
av: 353746 Tsividis, Yannis
Publicerad: (1987)
MOS integrated circuits : theory, fabrication, design and systems applications of MOS LSI/
av: Penny, William M, et al.
Publicerad: (1972)
Operation and modeling of the MOS transistor /
av: 353746 Tsividis, Yannis
Publicerad: (1999)