Modelling of dopant diffusion in MOS fabrication process [mikrofilem]/

Project paper (Bachelor of Electrical Engineering) -- Universiti Teknologi Malaysia, 1990

Bibliografiset tiedot
Päätekijä:	225173 Oommen P. A. Kunjappy
Aineistotyyppi:
Julkaistu:	1990
Aiheet:	Metal oxide semiconductors Silicon Microelectronics

Samankaltaisia teoksia