ساخت و مشخصه یابی لایه‌های نازک متخلخل BiVO4: تأثیر نقص‌های ساختاری بر خواص فوتوالکتروشیمیایی

در این تحقیق، لایه ­های نازک متخلخل BiVO4 به ضخامت حدود 1/3 میکرومتر به کمک روش افشانۀ پایرولیز پالسی بر روی بستر رسانای شفاف ITO تهیه شد. بررسی الگوی پراش پرتو X، نشان داده که این لایه­ ها ساختار چهار وجهی شیلایت داشته و میانگین اندازۀ بلورک ­های آن حدودnm  16 تخمین زده شد. بر اساس تحلیل نتایج طیف...

Full description

Bibliographic Details
Main Authors: ابوالفضل رسولی اردلانی, محمد زیرک, مازیار کاظمی, علیرضا مشفق
Format: Article
Language:English
Published: Isfahan University of Technology 2022-08-01
Series:Iranian Journal of Physics Research
Subjects:
Online Access:https://ijpr.iut.ac.ir/article_3255_3453905073c80444ca1d45018fd2699d.pdf