Deposition features of ferroelectric thin films at high-frequency magnetron sputtering
Получены профили распределения скорости нанесения при высокочастотном (ВЧ) магнетронном распылении сегнетоэлектрических мишеней танталата стронция-висмута (SBT) и ниобата-танталата стронция висмута (SBTN) в Ar/O2 смеси газов. Установлено, что при распылении SBT и SBTN мишеней в центре зоны распылени...
| Main Authors: | , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Educational institution «Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics»
2019-06-01
|
| Series: | Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/1001 |
| _version_ | 1797881131974000640 |
|---|---|
| author | J. E. Okojie D. A. Golosov |
| author_facet | J. E. Okojie D. A. Golosov |
| author_sort | J. E. Okojie |
| collection | DOAJ |
| description | Получены профили распределения скорости нанесения при высокочастотном (ВЧ) магнетронном распылении сегнетоэлектрических мишеней танталата стронция-висмута (SBT) и ниобата-танталата стронция висмута (SBTN) в Ar/O2 смеси газов. Установлено, что при распылении SBT и SBTN мишеней в центре зоны распыления скорость нанесения значительно превышает скорость нанесения, характерную для распыления на постоянном токе, что является следствием генерации в разрядной зоне магнетрона отрицательно заряженных ионов. Предложена модель расчета распределения толщины наносимых пленок при ВЧ магнетронном распылении, которая учитывает поток формирующихся отрицательно заряженных ионов. |
| first_indexed | 2024-04-10T03:14:10Z |
| format | Article |
| id | doaj.art-2894302cc0684783b6e1e40c15b9bbda |
| institution | Directory Open Access Journal |
| issn | 1729-7648 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2024-04-10T03:14:10Z |
| publishDate | 2019-06-01 |
| publisher | Educational institution «Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics» |
| record_format | Article |
| series | Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki |
| spelling | doaj.art-2894302cc0684783b6e1e40c15b9bbda2023-03-13T07:33:15ZrusEducational institution «Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics»Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki1729-76482019-06-010487931000Deposition features of ferroelectric thin films at high-frequency magnetron sputteringJ. E. Okojie0D. A. Golosov1Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Республика БеларусьБелорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Республика БеларусьПолучены профили распределения скорости нанесения при высокочастотном (ВЧ) магнетронном распылении сегнетоэлектрических мишеней танталата стронция-висмута (SBT) и ниобата-танталата стронция висмута (SBTN) в Ar/O2 смеси газов. Установлено, что при распылении SBT и SBTN мишеней в центре зоны распыления скорость нанесения значительно превышает скорость нанесения, характерную для распыления на постоянном токе, что является следствием генерации в разрядной зоне магнетрона отрицательно заряженных ионов. Предложена модель расчета распределения толщины наносимых пленок при ВЧ магнетронном распылении, которая учитывает поток формирующихся отрицательно заряженных ионов.https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/1001высокочастное магнетронное распылениесегнетоэлектрикискорость нанесениякоэффициент распыления |
| spellingShingle | J. E. Okojie D. A. Golosov Deposition features of ferroelectric thin films at high-frequency magnetron sputtering Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki высокочастное магнетронное распыление сегнетоэлектрики скорость нанесения коэффициент распыления |
| title | Deposition features of ferroelectric thin films at high-frequency magnetron sputtering |
| title_full | Deposition features of ferroelectric thin films at high-frequency magnetron sputtering |
| title_fullStr | Deposition features of ferroelectric thin films at high-frequency magnetron sputtering |
| title_full_unstemmed | Deposition features of ferroelectric thin films at high-frequency magnetron sputtering |
| title_short | Deposition features of ferroelectric thin films at high-frequency magnetron sputtering |
| title_sort | deposition features of ferroelectric thin films at high frequency magnetron sputtering |
| topic | высокочастное магнетронное распыление сегнетоэлектрики скорость нанесения коэффициент распыления |
| url | https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/1001 |
| work_keys_str_mv | AT jeokojie depositionfeaturesofferroelectricthinfilmsathighfrequencymagnetronsputtering AT dagolosov depositionfeaturesofferroelectricthinfilmsathighfrequencymagnetronsputtering |