Light and matter co-confined multi-photon lithography

Abstract Mask-free multi-photon lithography enables the fabrication of arbitrary nanostructures low cost and more accessible than conventional lithography. A major challenge for multi-photon lithography is to achieve ultra-high precision and desirable lateral resolution due to the inevitable optical...

Ամբողջական նկարագրություն

Մատենագիտական մանրամասներ
Հիմնական հեղինակներ: Lingling Guan, Chun Cao, Xi Liu, Qiulan Liu, Yiwei Qiu, Xiaobing Wang, Zhenyao Yang, Huiying Lai, Qiuyuan Sun, Chenliang Ding, Dazhao Zhu, Cuifang Kuang, Xu Liu
Ձևաչափ: Հոդված
Լեզու:English
Հրապարակվել է: Nature Portfolio 2024-03-01
Շարք:Nature Communications
Առցանց հասանելիություն:https://doi.org/10.1038/s41467-024-46743-5