Technological Methods of Forming Thin Semiconductor Layers Part 3. Сathode Sputtering
The peculiarities and the basic technological ways of forming thin layers of semiconductor materials in vacuum by the method of thermal sputtering in quasi-closed volume are analyzed. The disadvantages of thermal deposition of thin films in open vacuum for multicomponent semiconductor compounds are...
| Main Authors: | , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Stepan Gzhytskyi National University of Veterinary Medicine and Biotechnologies Lviv
2020-05-01
|
| Series: | Науковий вісник Львівського національного університету ветеринарної медицини та біотехнологій імені С.З. Ґжицького. Серія: Харчові технології |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nvlvet.com.ua/index.php/food/article/view/3930 |