Influence of strain induced by AlN nucleation layer on the electrical properties of AlGaN/GaN heterostructures on Si(111) substrate
The crack-free metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) grown AlGaN/GaN heterostructures on Si substrate with modified growth conditions of AlN nucleation layer (NL) and its influence on the electrical and structural properties of conductive GaN layer are presented. From the Hall electrical m...
Հիմնական հեղինակներ: | Dennis Christy, Arata Watanabe, Takashi Egawa |
---|---|
Ձևաչափ: | Հոդված |
Լեզու: | English |
Հրապարակվել է: |
AIP Publishing LLC
2014-10-01
|
Շարք: | AIP Advances |
Առցանց հասանելիություն: | http://dx.doi.org/10.1063/1.4897338 |
Նմանատիպ նյութեր
-
Investigation of interface properties of h-BN and AlN on AlGaN/GaN heterostructures
: Whiteside, Matthew David
Հրապարակվել է: (2021) -
Toward AlGaN channel HEMTs on AlN: Polarization-induced 2DEGs in AlN/AlGaN/AlN heterostructures
: Jashan Singhal, և այլն
Հրապարակվել է: (2022-11-01) -
Optical Performance of Two Dimensional Electron Gas and GaN:C Buffer Layers in AlGaN/AlN/GaN Heterostructures on SiC Substrate
: Roman B. Adamov, և այլն
Հրապարակվել է: (2021-06-01) -
Off-state electrical breakdown of AlGaN/GaN/Ga(Al)N HEMT heterostructure grown on Si(111)
: Shuiming Li, և այլն
Հրապարակվել է: (2016-03-01) -
Structural and optical properties of AlN/GaN and AlN/AlGaN/GaN thin films on silicon substrate prepared by plasma assisted molecular beam epitaxy (MBE)
: Ho Xin Jing, և այլն
Հրապարակվել է: (2019-03-01)