Influence of strain induced by AlN nucleation layer on the electrical properties of AlGaN/GaN heterostructures on Si(111) substrate
The crack-free metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) grown AlGaN/GaN heterostructures on Si substrate with modified growth conditions of AlN nucleation layer (NL) and its influence on the electrical and structural properties of conductive GaN layer are presented. From the Hall electrical m...
Автори: | Dennis Christy, Arata Watanabe, Takashi Egawa |
---|---|
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
AIP Publishing LLC
2014-10-01
|
Серія: | AIP Advances |
Онлайн доступ: | http://dx.doi.org/10.1063/1.4897338 |
Схожі ресурси
Схожі ресурси
-
Investigation of interface properties of h-BN and AlN on AlGaN/GaN heterostructures
за авторством: Whiteside, Matthew David
Опубліковано: (2021) -
Toward AlGaN channel HEMTs on AlN: Polarization-induced 2DEGs in AlN/AlGaN/AlN heterostructures
за авторством: Jashan Singhal, та інші
Опубліковано: (2022-11-01) -
Optical Performance of Two Dimensional Electron Gas and GaN:C Buffer Layers in AlGaN/AlN/GaN Heterostructures on SiC Substrate
за авторством: Roman B. Adamov, та інші
Опубліковано: (2021-06-01) -
Off-state electrical breakdown of AlGaN/GaN/Ga(Al)N HEMT heterostructure grown on Si(111)
за авторством: Shuiming Li, та інші
Опубліковано: (2016-03-01) -
Structural and optical properties of AlN/GaN and AlN/AlGaN/GaN thin films on silicon substrate prepared by plasma assisted molecular beam epitaxy (MBE)
за авторством: Ho Xin Jing, та інші
Опубліковано: (2019-03-01)