Patente como modelo de utilidad: reactor dual asistido por plasma generado por microondas para ataque iónico y deposición de materiales

Bibliographic Details
Main Authors: Mauricio Arroyave Franco, Juan Manuel Jaramillo Ocampo
Format: Article
Language:English
Published: Universidad EAFIT 2012-11-01
Series:Ingeniería y Ciencia
Online Access:http://publicaciones.eafit.edu.co/index.php/ingciencia/article/view/1719