Patente como modelo de utilidad: reactor dual asistido por plasma generado por microondas para ataque iónico y deposición de materiales
Main Authors: | , |
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Format: | Article |
Language: | English |
Published: |
Universidad EAFIT
2012-11-01
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Series: | Ingeniería y Ciencia |
Online Access: | http://publicaciones.eafit.edu.co/index.php/ingciencia/article/view/1719 |