Influencia del bombardeo iónico sobre películas delgadas de nitruro de boro cúbico depositadas por pulverización catódica r. f.
Películas delgadas de nitruro de boro cúbico (c-BN) fueron depositadas mediante la técnica del d. c. y r. f. (13,56 MHz) magnetron sputtering multi-blanco, utilizando un blanco de nitruro de boro hexagonal (h-BN) con una pureza de 99,9% y una mezcla de gas Ar (95%) y N2 (5%). Los recubrimientos s...
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| Published: |
Universidad de Antioquia
2006-01-01
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| Series: | Revista Facultad de Ingeniería Universidad de Antioquia |
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| author | Gilberto Bejarano Gaitán José Manuel Roque Caicedo Pedro Prieto Pulido Gustavo Zambrano Eval Baca Miranda |
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| description | Películas delgadas de nitruro de boro cúbico (c-BN) fueron depositadas mediante
la técnica del d. c. y r. f. (13,56 MHz) magnetron sputtering multi-blanco, utilizando
un blanco de nitruro de boro hexagonal (h-BN) con una pureza de 99,9%
y una mezcla de gas Ar (95%) y N2 (5%). Los recubrimientos se depositaron a
una temperaturas de 300 y 900 °C y a densidades de potencia de 7 y 24 W/cm2.
Con el propósito de obtener la mayor fracción posible de fase cúbica del BN, se
aplicó un Bias d. c. entre 0-250 V, así como también un bias r. f. entre 0-350 V
durante la fase de crecimiento del recubrimiento. La microestrutura, composición,
morfología, topografía y espesor de las películas se caracterizaron mediante espectroscopia
en el infrarrojo por transformadas de Fourier (FTIR) y microscopía
de fuerza atómica (AFM). Las películas de c-BN depositadas a 300 °C, a una
presión de 4 x 10-3 mbar y un bias r. f. del substrato de -150 V durante el periodo
de crecimiento por un tiempo 35 min, presentaron la mayor fracción de fase cúbica
de aproximadamente 85%. |
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