Crecimiento de estructuras de carbono mediante deposición química en fase de vapor a baja presión

Crecimiento de estructuras de carbono mediante deposición química en fase de vapor a baja presión

Los alótropos de carbono han ganado interés en las últimas décadas debido a sus propiedades y a la gran variedad de posibles aplicaciones tecnológicas que han demostrado. Por dichas razones, la obtención de estos alótropos con diferentes propiedades y coberturas es ampliamente investigado. La Depos...

Bibliografiset tiedot
Päätekijät:	Stephanie Mariela Varela-Fonseca, Camila Hernández-Murillo, Ernesto Montero-Zeledón, Dionisio Gutiérrez-Fallas, Roberto Urcuyo, Allen Puente-Urbina
Aineistotyyppi:	Artikkeli
Kieli:	Spanish
Julkaistu:	Instituto Tecnológico de Costa Rica 2022-09-01
Sarja:	Tecnología en Marcha
Aiheet:	Deposición Química en Fase de Vapor (CVD) Deposición Química en Fase de Vapor a Baja Presión (LPCVD) Carbono Grafeno Espectroscopia Raman
Linkit:	https://172.20.14.50/index.php/tec_marcha/article/view/6067

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Preparación de recubrimientos cerámicos mediante técnicas de CVD
Tekijä: Ojeda, F., et al.
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Caracterización mecánica de recubrimientos de aluminio por CVD-FBR sobre aceros inoxidables y resistencia a la oxidación en vapor de agua
Tekijä: Diego Pérez-Muñoz, et al.
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Materials and vapour-phase techniques for the synthesis of ceramic coatings
Tekijä: Albella, J. M., et al.
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Deposición de Ni-B por vía química para aplicaciones de contacto eléctrico
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Deposición atmosférica de los principales compuestos del nitrógeno en bosques tropicales, La Palma, Cuba
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BEHAVIOR OF ALUMINUM COATING BY CVD-FBR IN STEAM OXIDATION AT 700°C
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Evaluación de procesos de aplicación de segunda capa para mejorar la resistencia al tallado de un recubrimiento polimérico base agua aplicado a sustratos vítricos
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Calidad del aire en la ciudad de Pinar del Río. Valores experimentales
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