夜间135.6 nm气辉反演的电离层<italic>f</italic><sub>0</sub><italic>F</italic><sub>2</sub>与测高仪观测比较研究
在夜间电离层，气辉135.6 nm谱线主要由F层的O<sup>+</sup>和电子的辐射复合过程以及O<sup>+</sup>和O<sup>–</sup>的中性复合过程激发，该谱线强度和电离层峰值电子密度<italic>N</italic><sub>m</sub><italic>F</italic><sub>2</sub>存在很强的相关性。利用夜气辉135.6 nm辐射强度与<italic>F</italic&...
| Main Authors: | , , , , , , , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Science Press
2023-07-01
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| Series: | Kongjian kexue xuebao |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://www.sciengine.com/doi/10.11728/cjss2023.03.2022-0018 |