Ferroelectric memory field-effect transistors using CVD monolayer MoS2 as resistive switching channel
Ferroelectric field-effect transistors (FeFETs) have been considered as promising electrically switchable nonvolatile data storage elements due to their fast switching speed, programmable conductance, and high dynamic range for neuromorphic applications. Meanwhile, FeFETs can be aggressively shrunk...
Հիմնական հեղինակներ: | Shen, Pin-Chun, Lin, Chungwei, Wang, Haozhe, Teo, Koon Hoo, Kong, Jin Au |
---|---|
Այլ հեղինակներ: | Massachusetts Institute of Technology. Department of Electrical Engineering and Computer Science |
Ձևաչափ: | Հոդված |
Լեզու: | English |
Հրապարակվել է: |
AIP Publishing
2020
|
Առցանց հասանելիություն: | https://hdl.handle.net/1721.1/125845 |
Նմանատիպ նյութեր
-
In‐plane ferroelectrics enabling reduced hysteresis in monolayer MoS2 transistors
: Mingxuan Yuan, և այլն
Հրապարակվել է: (2024-07-01) -
Large-area CVD growth of two-dimensional transition metal dichalcogenides and monolayer MoS₂ and WS₂ metal-oxide-semiconductor field-effect transistors
: Shen, Pin-Chun
Հրապարակվել է: (2017) -
Direct Observation of Semimetal Contact Induced Charge Doping and Strain Effect in CVD‐Grown Monolayer MoS2 Transistors
: Xuewei Feng, և այլն
Հրապարակվել է: (2024-06-01) -
CVD graphene contacts for lateral heterostructure MoS2 field effect transistors
: Daniel S. Schneider, և այլն
Հրապարակվել է: (2024-05-01) -
Optical Signal Investigation of Monolayer MoS2 Grown Via Glass-Assisted CVD On Patterned Surfaces
: Aydan Yeltik
Հրապարակվել է: (2024-04-01)