Multiscale modeling of chemical vapor deposition and plasma etching

Multiscale modeling of chemical vapor deposition and plasma etching

Thesis (Ph.D.)--Massachusetts Institute of Technology, Dept. of Chemical Engineering, 2000.

Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Rodgers, Seth Thomas, 1970-
Další autoři: Klavs F. Jensen.
Médium: Diplomová práce
Jazyk:en_US
Vydáno: Massachusetts Institute of Technology 2005
Témata:
Chemical Engineering.
On-line přístup:http://hdl.handle.net/1721.1/28219

Internet

http://hdl.handle.net/1721.1/28219

Podobné jednotky