Plasma assisted deposition of Ti-Si-N and Ti-Si-N-O diffusion barrier films
216 p.
第一著者: | |
---|---|
その他の著者: | |
フォーマット: | 学位論文 |
出版事項: |
2010
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主題: | |
オンライン・アクセス: | https://hdl.handle.net/10356/35963 |
216 p.
第一著者: | |
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その他の著者: | |
フォーマット: | 学位論文 |
出版事項: |
2010
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主題: | |
オンライン・アクセス: | https://hdl.handle.net/10356/35963 |