| Summary: | Telah dihasilkan beberapa lapisan tipis dengan metode implantasi ion nitrogen. Lapisan tipis frki dianalisis sifat-sifat optis, ketebalannya dan komposisinya dengan menggunakan spektrofotometer Ultraviolet-Visible dan Electron Probe Microanalyzer. Hasil penelitian ini menunjukkan bahwa: (1) lapisan tipis nitrida:silikat memiliki ketebalan dalam orde ribuan angstrom, yaitu dari (2640 ± 5)A hingga (4625 ± 6)A, (2) pada energi ion tetap, penambahan dosis ion menyebabkan indeks bias lapisan tipis semakin besar, (3) pada dosis ion tetap, penambahan energi ion menyebabkan indeks bias lapisan tipis semakin turun, tetapi ketebalan Iapisannya semakin meningkat, (4) lapisan tipis dengan indeks bias semakin besar memiliki koefisien serapan, koefisien ekstinsi, absorptans clan reflektans juga semakin besar, tetapi transmitansnya semakin kecil.
Kata kunci: Lapisan tipis nitrida:silikat, implantasi ion, sifat-sifat optis.
|
|---|